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材料成型及控制工程系
部门: 日期:2012-05-03 16:03:06 浏览量:

材料工程中心

Center of Material Engineering

材料工程中心建于2000年,以高纯、高完整性、精细材料为主要研究方向,研发先进材料合成、特性、应用,研究的对象包括:高纯硅烷合成与提纯,高纯纳米硅基粉体合成与应用,先进陶瓷制造,半导体晶体生长,磁场拉晶,太阳电池材料新工艺,稀土晶体材料合成与特性,薄膜与镀层材料,材料测试与仪器等,主要涉及半导体、功能材料和新能源材料的开发和应用。

材料工程中心实验室建有国内唯一的高纯硅烷合成中试系统,实验室有物理制备室、化学CVD室、新能源材料室、材料工艺室、气体分析室、电性测试室等共1300平米。拥有“材料科学”、“材料加工工程”、“材料物理与化学”三个硕士点。

近年完成和承担的课题有:纳米氮化硅粉体原位包覆,傅利叶红外光谱硅中氧碳含量分析图谱处理,磁场硅单晶生长及节能磁场等。已展开的研究课题有:钢铁表面陶瓷镀层改性,纳米氮化硅粉体制备,纳米氮化硅烧结,硅烷CVD过程传热传质模拟,氢化物气体吸附特性等。

学科梯队结构合理,其中教授1人,副教授2人,研究所人员中具有博士以上学位占75%。近5年来,材料工程中心在国内外著名学术刊物上发表论文约50篇,其中被SCIEI收录20篇;承担国家自然科学基金项目、浙江省自然科学基金项目、各类企业项目等十余项,获国家发明专利近10项。

学术带头人介绍:

姚奎鸿教授,硕(博)士生导师;材料工程中心主任。

1962 年毕业于浙江大学半导体材料与器件专业留校任教, 1985 1989 年美国麻省理工学院( MIT )材料系访问学者,回国后继续从事教学和科研。 1999 年受聘于浙江工程学院继续从事科研和教学。现浙江工程学院材料工程中心主任,主持材料工程中心建设与研究。

学科专长:半导体材料

研究方向:

1. 半导体材料制造技术:硅与砷化镓单晶生长 / 磁场生长大直径单晶 / 单晶中微量杂质与微缺陷分析及控制 / 半导体光、电、磁、热特性测试分析 / 材料合成过程及结构分析计算机模拟数字处理;

2. 高纯度硅烷制造与应用技术:硅烷合成与提纯 / 硅烷化学气相沉积( CVD / 硅烷安全处理 / 硅烷制造工程化;

3. 氮化硅纳米粉体与薄膜制造技术:高纯、超微氮化硅低成本制造 / 含硅(氮化硅 / 碳化硅 / 硅等)涂层 / 非晶硅材料与器件 / 先进陶瓷与功能材料。

 

 

 

               材料工程中心全貌

                中试实验室

 

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